2019-06-14
?水基清洗劑在攝像模組指紋模組清洗中的應(yīng)用
水基清洗劑在攝像模組指紋模組清洗中的應(yīng)用
文章關(guān)鍵詞導(dǎo)讀：水基清洗劑、攝像模組清洗指紋模組清洗、PCBA線路板清洗
一、攝像頭模組的應(yīng)用領(lǐng)域
二、攝像頭模組的構(gòu)造
攝像頭模組主要由鏡頭、傳感器Sensor、后端圖像處理芯片、軟板四個(gè)部分組成。模組是影像捕捉至關(guān)重要的電子器件，器件的潔凈決定了模組使用的效果。在生產(chǎn)裝置過程中對(duì)元件清潔方面的要求很高。
三、攝像頭模組發(fā)展的結(jié)果特點(diǎn)
1.感知與處理的信號(hào)更加微弱與靈敏。這就要求更小的背景“噪聲”，更為潔凈的PCB；
2.工作頻率更高，帶寬更寬。也就要求電路環(huán)境的更高的一致性，更少的引起干擾的異物；
3.更輕、更小的元件，如0201以至更小的chip元件的引入<.li>
4.更高的組裝密度，如元件間距小于0.2mm;
5.結(jié)構(gòu)不同、焊點(diǎn)清洗部位隱蔽的新型器件如：microBGAs、Flip-Chips等的引入
6.更高的耐（電）壓趨勢(shì)
7.更惡劣的工作環(huán)境的適應(yīng)性等等
四、相應(yīng)清洗工藝要求
1、在清洗劑方面的要求
a、選擇與使用焊劑匹配的清洗劑
b、清洗劑能適應(yīng)不同情況，不會(huì)因生產(chǎn)工藝微小的改變而無法適應(yīng)
c、要求清洗劑粘度低，流動(dòng)性好，以適應(yīng)微細(xì)間隙部分的清洗
d、清洗劑提供商有足夠的技術(shù)儲(chǔ)備，能提供強(qiáng)大的技術(shù)支持
e、低成本
2、在工藝和設(shè)備上的要求
a、勝任高精、高密、組裝有microBGAs、Flip-Chips等高新元器件的高潔凈清洗
b、無毒、低毒、防火、防爆
c、溶劑內(nèi)循環(huán)，低排污
d、參數(shù)自控，特別是潔凈度自控
3、相對(duì)于傳統(tǒng)溶劑清洗劑，水基清洗劑體現(xiàn)在以下幾個(gè)方面：
a、使用安全，無閃點(diǎn)；
b、無毒，對(duì)人體危害小；
清洗壽命長(zhǎng)，相對(duì)成本低；
c、能徹底有效去除各種殘留物，滿足高精、高密、高潔凈清洗要求；
殘留物如：免洗錫膏殘留清洗、助焊劑殘留清洗、極性污染物、非極性污染物、離子污染物、灰塵、手印、油污，以及溶劑清洗劑無法去除的金屬氧化層（見圖1圖2）。
五、環(huán)保清洗工藝
高效、高規(guī)格、環(huán)保安全的水基清洗工藝是最理想的選擇，也是未來清洗業(yè)的發(fā)展方向和必經(jīng)之路。
【閱讀提示】
以上為本公司一些經(jīng)驗(yàn)的累積，因工藝問題內(nèi)容廣泛，沒有面面俱到，只對(duì)常見問題作分析，隨著電子產(chǎn)業(yè)的不斷更新?lián)Q代，新的工藝問題也不斷出現(xiàn)，本公司自成立以來不斷的追求產(chǎn)品的創(chuàng)新，做到與時(shí)俱進(jìn)，熟悉各種生產(chǎn)復(fù)雜工藝，能為各種客戶提供全方位的工藝、設(shè)備、材料的清洗解決方案支持。
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