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小芯片和混合鍵合開辟新領(lǐng)域與先進封裝芯片清洗介紹

發(fā)布日期:2023-06-16 發(fā)布者:合明科技 瀏覽次數(shù):3655
超越摩爾定律的創(chuàng)新:小芯片和混合鍵合開辟新領(lǐng)域

先進封裝已成為半導體創(chuàng)新、增強功能、性能和成本效益的關(guān)鍵。臺積電、英特爾和三星等大公司正在采用小芯片和異構(gòu)集成 策略,利用 AP 技術(shù)以及前端擴展工作。
chiplet 方法 將 SoC 芯片劃分為多個芯片,僅縮放具有先進技術(shù)節(jié)點的芯片,并使用 2.5D 或 3D 封裝將它們集成。這提高了產(chǎn)量并降低了成本?;旌湘I合 (HB:Hybrid Bonding) 是另一個 重要趨勢,可實現(xiàn)金屬-金屬和氧化物-氧化物面對面堆疊,且凸點間距小于10 μm。它用于 CIS 和 3D NAND 堆疊等應用的晶圓到晶圓混合鍵合,以及用于 PC、HPC 和數(shù)據(jù)中心的邏輯上內(nèi)存堆疊 3D IC 中的 3D SoC 的持續(xù)開發(fā)。
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臺積電憑借其CoWoS 生產(chǎn)和多樣化產(chǎn)品組合(包括 3D SoIC 、  InFO_SoW和 CoWoS變體)在高端先進封裝領(lǐng)域處于領(lǐng)先地位 。英特爾在2022年大力投資先進封裝,但宏觀經(jīng)濟因素影響了其2023年的核心業(yè)務(wù)。因此,我們預計臺積電今年在先進封裝方面的投資將超過英特爾 。三星為 HBM 和 3DS 產(chǎn)品、扇出面板級封裝和 硅中介層提供先進封裝解決方案,從而實現(xiàn)高端性能產(chǎn)品。
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與傳統(tǒng)封裝相比,先進封裝需要不同的設(shè)備、材料和工藝,例如新的基板材料、光刻工藝、激光鉆孔、CMP 和 KGD 測試。AP 參與者進行了大量投資 來開發(fā)和引入這些進步。與先進封裝的異構(gòu)集成推動了半導體創(chuàng)新,提高了整體系統(tǒng)性能,同時降低了成本。

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芯片封裝基板的助焊劑清洗:

半導體芯片封裝過程中通常會使用助焊劑和錫膏等作為焊接輔料,這些輔料在焊接過程或多或少都會有部分殘留物,還包括制程中沾污的指印、汗液、角質(zhì)和塵埃等污染物。同時,半導體組裝了鋁、銅、鉑、鎳等敏感金屬和油墨字符、電磁碳膜和特殊標簽等相當脆弱的功能材料。這些敏感金屬和特殊功能材料對清洗劑的兼容性提出了很高的要求。

合明半水基清洗工藝解決方案,可在清洗芯片封裝基板的焊接殘留物和污垢的同時去除金屬界面高溫氧化膜,保障下一道工序的金屬界面結(jié)合強度;對芯片半導體基材、金屬材料擁有優(yōu)良的材料兼容性,清洗后易于用水漂洗干凈。

歡迎使用合明科技半水基清洗劑W3300!

以上便是芯片封裝基板清洗,封裝基板的主要結(jié)構(gòu)和生產(chǎn)技術(shù)的介紹,希望可以幫到您!

 


Tips:

【閱讀提示】

以上為本公司一些經(jīng)驗的累積,因工藝問題內(nèi)容廣泛,沒有面面俱到,只對常見問題作分析,隨著電子產(chǎn)業(yè)的不斷更新?lián)Q代,新的工藝問題也不斷出現(xiàn),本公司自成立以來不斷的追求產(chǎn)品的創(chuàng)新,做到與時俱進,熟悉各種生產(chǎn)復雜工藝,能為各種客戶提供全方位的工藝、設(shè)備、材料的清洗解決方案支持。

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